Вакуумний універсальний пост ВН-2000

Призначений для отримання плівок з різних матеріалів з високою продуктивністю різними методома розпилювання в вакуумі

Установка ВН-2000 призначена для отримання вакууму в робочому об'ємі, нанесення плівок у вакуумі з провідних, напівпровідникових та діелектричних матеріалів методом магнетронного, резистивного і електронно — променевого розпилення (розпорошення), а також для травлення матеріалів в плазмі (в залежності від комплекту поставки).

Установка може бути застосована для дослідження в галузі фізики, хімії, біології, медицини, матеріалознавства, мікроелектроніки та інших галузей, а також відпрацювання окремих технологічних операцій з напилення.
Установки можуть експлуатуватися при температурі навколишнього повітря від 10 оС до 35 оС, відносної вологості не більше 80% та атмосферному тиску від 84 кПа до 106,7 кПа.
Електричне живлення установки повинно відповідати:
Напруга, 380/220;
Частота Гц 50.
Якість електричної енергії згідно з ГОСТ 13109.
Потужність установки повинна бути не більше 3 кВ*А.

ОСНОВНІ ТЕХНІЧНІ ДАНІ ТА ХАРАКТЕРИСТИКИ

3.1 Маса установки трохи більше 350 кг.
3.2 Установка забезпечує граничний залишковий тиск (у чистій та знегаженій) робочій камері 5•10-4 Па.
3.3 Нагрівач у пристрої напилення забезпечує температуру в районі підкладки не менше ніж 300 оС.
Час нагріву до температури 300 оС трохи більше 30 хв.
3.4 Напруга на виході високовольтного випрямляча (без навантаження) регулюється від 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Граничне відхилення верхнього значення 0,3 кВ.

3.5 Напруга блоку живлення постійного струму магнетрона (без навантаження) до 1 кВ.
3.6 Максимальний струм блоку живлення постійного струму магнетрона - 300 мА.
3.7 Максимальний іонний струм пристрою іонного травлення – 100 мA.
3.8 Установка забезпечують відкачування робочої камери з атмосферного тиску до тиску 2,010 -3 Па протягом не більше 15 хв.
3.9 Струм пучка електронного випарника регулюється від 0 мА до
200 мA.
3.10 Струм розжарення електронно-променевого випарника регулюється від 2 до 10А.
3.11 Струм джерела резистивного випарника 1 регулюється від 5 до 200А.
3.12 Струм джерела резистивного випарника 2 регулюється від 3 до 50А.

Зберігається можливість установки всього асортименту додаткових аксесуарів, представлених на сайті