Вакуумний напилювальний пост ВН-2000-08 (аналог ВН-2000)

Установка ВН-2000 (-08) призначена для отримання вакууму в робочому об'ємі, нанесення плівок у вакуумі з провідних, напівпровідникових та діелектриків

3.1 Маса установки не більш 350 кГ.
3.2 Габаритні розміри установки:
— стійка аналітична 470мм х 540мм х 1600мм,
— стійка електрична 610мм х 630мм х 1670мм.
3.3 Установка забезпечує граничний залишковий тиск (в чистій і обезгаженной) робочій камері 5•10-4 Па.
3.4 Нагрівач у пристрої напилення забезпечує температуру в районі підкладки не менше 300 оС.
Час нагрівання до температури 300 оС не більше 30 хв.
3.5 Напруга на виході високовольтного випрямляча (без навантаження) регулюється від 0,5 кВ до 4,0 кВ.
Граничне відхилення верхнього значення  0,3 кВ.

3.7 Напруга блоку живлення постійного струму (без навантаження) до 1 кВ.
3.8 Максимальний струм блоку живлення постійного струму магнетрона - 300 мА.
3.9 Максимальний іонний струм пристрою іонного травлення – 100 мA.
3.10 Установка забезпечують відкачування робочої камери з атмосферного тиску до тиску 2,010 -3 Па протягом не більше 15 хв.
3.11 Струм пучка електронного випарника регулюється від 0 мА до
200 мA.

3.12 Струм напруження електронно-променевого випарника регулюється від 2 до 10А.

3.13 Струм джерела резистивного випарника 1 регулюється від 5 до 200А.

3.14 Струм джерела резистивного випарника 2 регулюється від 3 до 50А.