Установка призначена для дослідних робіт з розпилення металів, напівпровідників і діелектриків з допомогою магнетронів DC або RF.
2 ТЕХНІЧНІ ХАРАКТЕРИСТИКИ
2.1 Маса установки не більше 420 кг.
2.2 Габаритні розміри установки:
— стійка аналітична 900мм х 610мм х 1620мм,
— стійка електрична 600мм х 600мм х 2160мм.
2.3 Установка забезпечує граничний залишковий тиск в робочому обсязі не більше 2×10-3 Па.
2.4 Нагрівач у пристрої осадження і нагрівання забезпечує температуру в районі підкладки не менше 300 оС.
Час нагрівання до температури 300 оС не більше 30 хв.
2.5 Пристрій осадження і нагрівання забезпечує частоту обертання підкладки в діапазоні від 5 об/хв до 15 об/хв.
2.6 Напруга на виході блоку живлення високовольтного (без навантаження) регулюється від 0 кВ до (4,0±0,2) кВ.
2.7 Максимальна напруга блоку живлення магнетрона DC (без навантаження) (1,2±0,1) кВ.
2.8 Струм блоку живлення магнетрона DC регулюється від 0 мА до (1000±50) мА.
2.9 Потужність блоку живлення магнетрона RF регулюється від 0 Вт до (500±50) Вт.
2.10 Максимальний іонний струм пристрою іонного травлення/очищення — 100 мА.
2.12 Установка забезпечують відкачку робочого об'єму від атмосферного тиску до тиску 6,0×10-3 Па за час не більше 45 хв.
2.13 Установка мають систему індикації тиску в робочому об'ємі в діапазоні від 1,0×105 Па до 1,0×10-4 Па.
2.14 Середнє напрацювання на відмову установки не менше 1 000 ч.
Середній час відновлення працездатного стану установки не більше 6 год.
Повний середній термін служби прилади не менше 10 років.
Повний середній ресурс повинен бути не менше 16 000 ч.
Основні | |
---|---|
Країна виробник | Україна |
Користувальницькі характеристики | |
Установка забезпечує граничний залишковий тиск в робочому обсязі, не більше | 2×10-3 Па |
Нагрівач у пристрої осадження і нагрівання забезпечує температуру в районі підкладки, не менше | 300 оС |
Споживана потужність установки, не більше | 3.3 кВ×А |
Маса установки, не більше | 420 кг |
Час нагрівання до температури 300 оС, не більш | 30 хв |
- Ціна: від 1 000 ₴